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純水

光學(xué)、電子用純水

        純水在光學(xué)、電子生產(chǎn)中的重要作用日益突出，純水水質(zhì)已經(jīng)成為影響光學(xué)、電子產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率以及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也是越來越高。在光學(xué)、電子的生產(chǎn)過程當(dāng)中，純水主要用作清洗用水以及用來配制各種溶液、漿料，不同的產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中純水的用途及對水質(zhì)的要求也略有不同。

       在電解電容器的生產(chǎn)過程當(dāng)中，鋁箔及工作件的清洗需使用純水，如水質(zhì)當(dāng)中含有氯離子，電容器就會有漏電現(xiàn)象發(fā)生。在電子管的生產(chǎn)過程中，電子管陰極涂覆碳酸鹽，如果其中混入雜質(zhì)，就會影響到電子的發(fā)生，進而影響電子管的放大性能。在晶體生長過程中，純水中雜質(zhì)的存在會改變晶體上不同面網(wǎng)的表面能，導(dǎo)致其相對生長速度也隨之變化進而影響晶體形態(tài)。

       光學(xué)、電子用純水常用處理工藝分為：
       ● 多介質(zhì)過濾器+活性炭過濾器+反滲透+混合離子交換器+拋光混床
          特點：使用反滲透減少酸堿的使用量，運行費用較低，環(huán)境污染減輕。
       ● 自清洗過濾器+超濾+反滲透+電去離子（EDI）+拋光混床
          特點：自動化程度較高，無酸堿化，運行費用低，無環(huán)境污染。

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